台积电、新思科技使用英伟达先进计算光刻技术
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台积电、新思科技使用英伟达先进计算光刻技术
佚名
整合编辑： 王珂玥
发布于：2024-03-25 15:30
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台积电新思科技Synopsys将采用英伟达Nvidia的cuLitho计算光刻技术进行生产，将工艺速度提高60倍。 英伟达在2023年的GPU技术大会上宣布了其cuLitho工具，并表示台积电和新思科技将在技术上合作。计算光刻是利用光掩模文件的数学预处理来调整光学光刻中的像差和效果。 今年，英伟达推出了增强cuLitho性能的生成式人工智能算法，并表示台积电和新思科技已将cuLitho集成到其软件和制造流程中，以加快芯片制造速度。 在半导体制造过程中，计算光刻是计算最密集的工作负载，每年在CPU上消耗数百亿小时。一个典型的芯片掩码集可能需要3000万小时或更多的CPU计算时间来生成。通过加速计算，350台NVIDIA H100系统现在可以取代40.000台CPU系统，从而加快了生产时间，同时降低了成本、空间和功耗。 “我们与英伟达合作，将GPU加速计算集成到台积电的工作流程中，从而实现了性能的巨大飞跃，大幅提高了吞吐量，缩短了周期时间，降低了功耗要求。”台积电首席执行官魏哲家在英伟达发布的一份声明中表示:“我们正在将Nvidia cuLitho在台积电投入生产，利用这种计算光刻技术来驱动半导体缩放的关键组件。” 自去年推出以来，cuLitho使台积电为创新图案技术开辟了新的机会。在共享工作流上测试cuLitho时，两家公司共同实现了曲线流的45倍加速，以及传统曼哈顿式、直线、电网约束流的近60倍改进。 “随着向先进节点的转移，计算光刻的复杂性和计算成本急剧增加。我们与台积电和英伟达的合作对于实现埃级扩展至关重要，因为我们率先采用先进技术，通过加速计算的力量将周转时间缩短了几个数量级，”新思科技首席执行官Sassine Ghazi在同一份声明中表示。 与目前基于CPU的方法相比，在Nvidia cullitho软件和Nvidia AI硬件上运行的Synopsys Proteus光学接近校正(OPC)可以加快计算工作量。 生成式AI工作流在cullitho加速流程的基础上提供了额外的2倍加速。生成式人工智能的应用可以创建近乎完美的反掩模或反解，以解释光的衍射。然后通过传统和物理严格的方法推导出最终掩模，将整个光学接近校正(OPC)过程加快了两倍。 |
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