挖孔也要消失！苹果新专利获授权：屏下Face ID真的稳了
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挖孔也要消失！苹果新专利获授权：屏下Face ID真的稳了
4月12日，美国专利商标局已正式授予苹果一项专利，该专利消除了iPhone的刘海，并将原有的深感摄像头模组放置在了手机显示屏下方。苹果新专利获授权，让我们对真全面屏iPhone充满希望。
从公开的专利图，我们可以看到屏下Face ID与当前刘海屏的效果区别，以及这项技术的工作原理，前置相机、Tof、点阵投影仪等组件隐藏在显示屏下方。苹果在专利中指出，全部前置组件都在屏幕下方，但各个组件与显示屏的距离都不尽相同。
苹果iPhone的屏下Face ID一直是用户心心念念却又无法实现的功能，从目前的爆料来看，今年发布的iPhone 14 Pro/Pro Max只是取消了祖传的刘海屏，换上了“感叹号”挖孔设计，屏占比得到了进一步提升，不过挖孔面积可不小，据说其直径达到了5.6毫米，远大于安卓机的挖孔。
天风国际分析师郭明錤近日表示，屏下Face ID将会在2024年的iPhone 16系列中出现，这个时间点发布更像是出于营销目的，而非技术问题。不过，对于屏下Face ID，郭明錤也只是猜测，啥时候量产还得看苹果的心情。
大步向真全面屏进发的安卓阵营，最近除了摩托罗拉edge X30屏下版外，几乎没有其它关于屏下摄像机型的消息。小雷认为，很可能是屏下摄像技术发展遇到了瓶颈，一时间内无法进一步突破。
屏下摄像如今面临的最大问题，还是无法兼顾高分辨率，目前绝大部分搭载屏下摄像的机型，屏幕基本都是1080P，考虑到屏下区域的显示效果，暂时还做不到2K这样的分辨率。
此外，以目前的技术，屏下区域的显示亮度也难以跟显示屏的其它部分持平，而且纱窗效应依旧存在，绝大部分的用户应该都不喜欢为了去掉挖孔，妥协屏幕的显示素质，毕竟显示屏是手机使用频率最高的一个部分。
另一方面，屏下摄像技术还没完全成熟，生产成本也不算很低，厂商很少会将其应用到高端旗舰或者是下放到更便宜的机型上，为了确保显示效果，主流的全面屏形态依旧是挖孔。
对于苹果，显示效果的优先级肯定是比真全面屏形态更高，也许等到能兼顾显示与形态的屏下Face ID技术，真全面屏时代离我们就不远了。
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