5
时隔7年回归！佳能即将发售新光刻机，生产效率提升17%
source link: http://www.jiguo.com/article/article/99281.html
Go to the source link to view the article. You can view the picture content, updated content and better typesetting reading experience. If the link is broken, please click the button below to view the snapshot at that time.
时隔7年回归！佳能即将发售新光刻机，生产效率提升17%-极果
时隔7年回归！佳能即将发售新光刻机，生产效率提升17%
极果媒体
1天前
如今，荷兰ASML公司是全球最大的光刻机制造商之一！但曾几何时，日本佳能在光刻机方面的地位与ASML不相上下，只不过，后来ASML工艺水平逐渐壮大，而佳能的研发停滞不前。
正当大家理所当然认为，佳能光刻机业务逐渐衰退时，转机来了！近日，据日媒报道，佳能将于2021年3月发售新型光刻机“FPA-3030i5a”，用来抢占高功能半导体市场。
时隔7年，佳能更新了面向小型基板的半导体光刻机，该设备使用波长为365纳米的“i线”光源，支持直径从2英寸（约5厘米）到8英寸（约20厘米）的小型基板，生产效率较以往机型提高了约17％。
拿工艺水平来说，佳能的这款新型光刻机为入门级，主要用途是帮助企业提高产能。除了主流的硅晶圆之外，该机还可以提高小型晶圆较多的化合物半导体的生产效率。包括功率器件耐压性等出色的碳化硅（SiC），以及作为5G相关半导体材料而受到期待的氮化镓（GaN）等。
对于佳能这一波“回归”操作，大家怎么看？
Recommend
About Joyk
Aggregate valuable and interesting links.
Joyk means Joy of geeK