4

独家!安集科技VS上海新安纳CMP抛光液技术布局对比(附专利总量对比、合作申请对比、重...

 11 months ago
source link: https://www.qianzhan.com/analyst/detail/220/230529-73b3536d.html
Go to the source link to view the article. You can view the picture content, updated content and better typesetting reading experience. If the link is broken, please click the button below to view the snapshot at that time.

独家!安集科技VS上海新安纳CMP抛光液技术布局对比(附专利总量对比、合作申请对比、重点专利布局对比等)

• 2023-05-29 12:00:37  来源:前瞻产业研究院 E424G0

行业主要上市公司:安集科技(688019)、上海新阳(300236)、鼎龙股份(300054)、万华化学(600309)等

本文核心数据:安集科技和上海新安纳专利申请数量、专利市场价值、重点专利布局

全文统计口径说明:1)搜索关键词:CMP抛光液及与之相近似或相关关键词;2)搜索范围:标题、摘要和权利说明;3)筛选条件:简单同族申请去重、法律状态为实质审查、授权、PCT进入指定国(指定期),简单同族申请去重是按照受理局进行统计。4)统计截至日期:2023年4月17日。5)若有特殊统计口径会在图表下方备注。

1、中国CMP抛光液技术竞争格局:安集科技和上海新安纳为中国主要企业之二

从企业的专利数量分布情况来看,安集科技和上海新安纳属于专利数量较多的企业。其中,安集科技的相关技术数量占比达到了35%左右,上海新安纳的相关技术数量占比为4%左右。

图表1:截至2023年中国CMP抛光液技术竞争格局(单位:%)

2、安集科技V.S.上海新安纳技术布局对比

(1)专利申请量及PCT申请量对比:安集科技遥遥领先于上海新安纳

不过,在CMP抛光液专利申请量方面,安集科技CMP抛光液专利申请总量是上海新安纳CMP抛光液专利申请量的6倍左右,分别为124项和20项。

图表2:截至2023年安集科技V.S.上海新安纳专利申请总量(单位:项)

从趋势上看,2004-2023年安集科技在CMP抛光液领域各年专利申请量整体比上海新安纳多。上海新安纳各年专利申请数量均为个位数,安集科技专利申请数量最高达到18项。

图表3:2004-2023年安集科技V.S.上海新安纳CMP抛光液专利申请趋势(单位:项)

(2)专利市场价值对比:微软专利市场价值更高

安集科技CMP抛光液专利总价值高于上海新安纳,安集科技CMP抛光液专利总价值为787.18万美元,是上海新安纳的4倍多。

图表4:截至2023年安集科技V.S.上海新安纳CMP抛光液专利市场价值(单位:万美元)

在专利价值分布方面,两者大多数CMP抛光液专利价值主要集中在3万-30万美元。

图表5:截至2023年安集科技V.S.上海新安纳CMP抛光液专利价值分布情况(单位:项)

(3)专利申请地域对比:美国为两者主要布局区域

目前,安集科技和上海新安纳的CMP抛光液专利申请区域主要集中在中国大陆,两者在中国大陆申请的CMP抛光液专利数量分别为111项和20项。中国台湾是安集科技CMP抛光液专利申请的第二大地区,专利申请数量为35项。

图表6:截至2023年安集科技V.S.上海新安纳CMP抛光液专利申请地域分布情况(单位:项)

统计口径说明:按每件申请显示一个公开文本的去重规则进行统计,并选择公开日最新的文本计算。

(4)专利类型对比:两者以发明专利为主

从专利类型分布情况来看,安集科技和上海新安纳CMP抛光液专利申请类型均为发明专利。

图表7:截至2023年安集科技V.S.上海新安纳CMP抛光液专利申请类型情况(单位:项)

(5)专利技术构成对比:两者布局的第一大细分领域一致,但微软聚焦领域更为明显

目前,“C09G1抛光组合物(虫胶清漆入C09F11/00;洗涤剂入C11D)[2006.01]”为安集科技和上海新安纳的第一大CMP抛光液技术细分分布领域,两者在这一领域的专利申请量分别为121项和19项。两者其它重点细分CMP抛光液技术布局情况如下:

图表8:截至2023年安集科技V.S.上海新安纳CMP抛光液专利技术分布(单位:项)

从CMP抛光液专利聚焦的领域看,目前微软的CMP抛光液专利聚焦领域较明显,其主要聚焦于化学机械、抛光液等。

图表9:截至2023年安集科技V.S.上海新安纳CMP抛光液专利聚集领域

(6)专利创新战略总结

整体来看,安集科技CMP抛光液技术在质量提升、专业化、多样化和国际化具有相对竞争优势,上海新安纳CMP抛光液技术则在数量增长、市场推动和合作性上具有相对竞争优势。

图表10:截至2023年安集科技V.S.上海新安纳CMP抛光液专利创新战略雷达图

更多本行业研究分析详见前瞻产业研究院《中国半导体CMP材料(抛光液/垫)行业发展前景预测与投资战略规划分析报告》,同时前瞻产业研究院还提供产业大数据、产业研究、产业规划、园区规划、产业招商、产业图谱、产业链咨询、技术咨询、IPO募投可研、IPO业务与技术撰写、IPO工作底稿咨询等解决方案。

更多深度行业分析尽在【前瞻经济学人APP】,还可以与500+经济学家/资深行业研究员交流互动。

前瞻产业研究院 - 深度报告 REPORTS

本文来源前瞻产业研究院,内容仅代表作者个人观点,本站只提供参考并不构成任何投资及应用建议。(若存在内容、版权或其它问题,请联系:[email protected]) 品牌合作与广告投放请联系:0755-33015062 或 [email protected]

Recommend

About Joyk


Aggregate valuable and interesting links.
Joyk means Joy of geeK